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美光和SK海力士在加速200层以上NAND闪存的开发

2022-02-09 18:36| 发布者: 张璠| 查看: 58531| 评论: 0|来自: IT之家  阅读量:13902   

摘要:全球半导体企业为了率先批量生产200层以上NAND闪存,展开了激烈的技术竞争三星电子计划在2022年底或2023年上半年推出200层以上NAND闪存,并在明年上半年开始批量生产 据businesskorea报道,三...

全球半导体企业为了率先批量生产 200 层以上 NAND 闪存,展开了激烈的技术竞争三星电子计划在 2022 年底或 2023 年上半年推出 200 层以上 NAND 闪存,并在明年上半年开始批量生产

美光和SK海力士在加速200层以上NAND闪存的开发

据 businesskorea 报道,三星电子原计划在 2021 年末开始量产 176 层 NAND,但考虑到市场情况,推迟到了 2022 年第一季度不过美国的美光已经开始量产 176 层 NAND,业内人士预测,三星电子将加快 200 层以上 NAND 闪存量产的步伐,以夺回被美光夺走的技术领先地位

业内人士称,三星电子将在 128 层的单片存储器上叠加 96 层,推出 224 层的 NAND 闪存与 176 层相比,224 层 NAND 闪存的生产效率和数据传输速度将提高 30%

另外,美光和 SK 海力士也在加速 200 层以上 NAND 闪存的开发。

时下在汽车电子,5G等新兴行业的推动下,我国已成为NAND闪存的第一大应用国。根据Yole资料整理,我国约占全球NAND芯片市场的37%,已超过美国的31%。与超高需求量相反的是目前我国的供给产能重复不足,仅占全球4%,这就意味着还有近十倍的空间,国内市场才能够达到供需平衡。

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